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  • 2024

    3-24

    NXQ4006光刻機是一種先進的半導體制造設備,用于在半導體芯片制造過程中進行光刻(photolithography)工藝。光刻是半導體制造中至關重要的步驟,通過將光線投射到光刻膠上,再通過光刻膠的顯影和蝕刻,可以在硅片上形成微米級甚至納米級的圖形結構,從而實現芯片上的電路、器件等元件的制造。NXQ4006光刻機具有以下特點和優勢:1.高精度:采用先進的光學系統和自動對焦技術,能夠實現高精度的光刻圖形轉移,確保芯片制造中微細結構的精準度和一致性。2.高速度:光刻工藝是半導體制...

  • 2024

    2-25

    WS1000濕法刻蝕機是一種用于半導體器件制造和研究領域的關鍵設備,主要用于在硅片表面進行刻蝕和清洗處理。采用濕法刻蝕技術,通過將硅片浸泡在特定的化學溶液中,利用化學反應來實現對硅片表面的刻蝕和清洗。在刻蝕過程中,控制刻蝕液的溫度、濃度、流速等參數,可以精確控制刻蝕速率和刻蝕深度,實現對硅片表面的精確加工。WS1000濕法刻蝕機的結構特點:1.反應池:用于裝載刻蝕液和硅片,實現刻蝕和清洗過程。2.溫控系統:用于控制刻蝕液的溫度,確??涛g過程的穩定性和可控性。3.流量控制系統:...

  • 2024

    1-25

    3850壓實密度儀是一種用于測量土壤、瀝青、混凝土等材料壓實程度的儀器。通過施加一定的壓力,使材料達到一定的密實度,然后測量其體積和重量,從而計算出材料的壓實密度。壓實密度是衡量材料密實程度的重要指標,對于道路、橋梁、建筑等工程的質量有著重要影響。3850壓實密度儀的特點:1.結構緊湊,操作簡便:采用一體化設計,將主機、壓力傳感器、位移傳感器等集成在一個小型設備中,便于攜帶和操作。同時,儀器配備了大屏幕液晶顯示器,可以直觀地顯示測量數據和操作提示,使得操作更加簡便。2.測量精...

  • 2023

    12-24

    NOVASCAN紫外臭氧清洗機是一款高效、環保的清洗設備,廣泛應用于醫療、食品、飲料、生物制藥等行業。采用紫外光和臭氧雙重殺菌技術,能夠在短時間內有效去除各種表面的細菌、病毒、霉菌等微生物,保證生產環境的潔凈度和安全性。工作原理是利用高能紫外光對微生物進行破壞,使其失去繁殖能力,同時產生臭氧氣體,進一步氧化分解殘留在表面的有機物和無機物,達到清洗的目的。紫外光的波長范圍在200-400納米之間,具有很強的穿透力和殺菌能力,能夠在短時間內殺死各種微生物。臭氧是一種強氧化劑,具有...

  • 2023

    11-26

    WABASH平板硫化機是一種專業用于橡膠硫化的設備,廣泛應用于橡膠制品行業。為一種高效、可靠的橡膠硫化設備,具備高效硫化、穩定性、自動化控制和多功能性等特點。它在橡膠制品行業的汽車工業、電力工業和醫療器械等領域有著廣泛的應用。WABASH平板硫化機的特點:1.高效硫化:采用*技術和設計,能夠實現高效的橡膠硫化過程。其具有均勻的溫度分布和良好的壓力控制系統,確保橡膠制品在硫化過程中獲得高質量的硫化效果。2.穩定性:采用高品質的材料和制造工藝,具有穩定可靠的性能。它能夠長時間運行...

  • 2023

    10-22

    NXQ8000系列掩膜曝光機是一種高精度半導體生產設備,廣泛應用于集成電路、光學器件、MEMS等領域中。該設備采用了*激光直寫技術和精密光學系統,能夠實現高分辨率、高精度的掩模制作,有助于提高半導體芯片的制造質量和性能。主要采用激光直寫技術進行掩模制作,其原理基于光刻技術。激光束經過調制和放大后,通過精密的光學系統投射到掩模上,控制激光的強度和位置進行掩模繪制。通過多次重復的曝光和顯影步驟,最終得到高精度、高分辨率的掩模。NXQ8000系列掩膜曝光機的特點:1.高精度:采用*...

  • 2023

    9-24

    EDC-650顯影機是一種常見的醫學影像設備,用于對放射學膠片進行顯影處理。它在醫院、診所等醫療機構中廣泛應用,為醫生和放射技師提供清晰的影像結果,輔助他們做出準確的診斷。EDC-650顯影機設備原理與結構:1.外殼:通常采用金屬材質,具有良好的耐腐蝕性和防護性能。外殼內部設計有適當的開口,用于放置和取出膠片。2.X射線源:顯影機配備有X射線源,用于產生高能量的X射線束。X射線源通常由高壓電源和防護裝置組成,可以調節X射線的強度和時間,以滿足不同類型的膠片需求。3.顯影槽:顯...

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