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  • PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機

    PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。 腔室材料是硬質陽極氧化鋁, 有幾種不同的電極設計,包括用于反應離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。

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    產品價格:面議
    廠商性質:代理商
    更新日期:2023-11-12
  • PlasmaStar 100/100 RIE反應離子刻蝕機PlasmaStar 100

    反應離子刻蝕機PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計算機控制,多級程序控制和組件控制,操作簡單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。

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    產品價格:面議
    廠商性質:代理商
    更新日期:2023-11-12
  • PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統

    PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。

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    產品價格:面議
    廠商性質:代理商
    更新日期:2023-11-12
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