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  • GM1010/GM1020/GM1075EM Resist SU-8負性抗蝕劑

    EM Resist SU-8負性抗蝕劑產品,非常適合半導體應用。我們的產品有各種形式和厚度范圍。 典型的SU-8過程包括以下步驟: 基板準備 旋涂 松弛時間以提高表面均勻度 軟烤 曝光后烘烤 發展歷程 沖洗并干燥 可選硬烤

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    更新日期:2023-11-13
  • 納米壓印光刻膠

    公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料,熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術相關的化學藥品,如模板防粘劑、基片增粘劑等。

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  • 2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000

    SU-8 2000是一種高對比度,基于環氧的光致抗蝕劑,設計用于微加工和其他微電子應用,需要厚,化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。

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  • 3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠

    SU-8 3000是一種高對比度,基于環氧的光刻膠,專為微加工和其他微電子應用中, 需要化學和熱穩定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進配方,已被廣泛采用 由MEMS生產商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應力。 SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。

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  • 2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000

    SU-8 2000是一種高對比度,基于環氧的光致抗蝕劑,設計用于微加工和其他微電子應用,需要厚,化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。

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  • 美國Futurrex光刻膠

    Futurrex 成立于1985年,是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產品以技術著稱,從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有:Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm (高通)等。Futurrex長期與Intel實驗室合作,產品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程,是各大研究機構產品。

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    更新日期:2023-11-13
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